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【作品征集】生(shēng)命的藝術—第二屆年(nián)度顯微圖片展 2023年(nián)04月11日(rì)

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科(kē)學是對客觀世界的認識,反映客觀事(shì)實和規律的、系統的知識體(tǐ)系,而藝術可(kě)以概括爲對各種美與醜的感悟和表達。直觀上看(kàn),藝術更多地強調個人(rén)的主觀感受,而科(kē)學強調客觀規律。科(kē)學和藝術都(dōu)追求普遍性、永恒性,求真、求美,大(dà)道至簡是普遍性與永恒性的基石,是真與美的極緻。

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首屆年(nián)度顯微圖片展 展館

      中華口腔醫學會口腔生(shēng)物醫學專業委員會是國(guó)内口腔醫學界從(cóng)事(shì)口腔生(shēng)物醫學研究和交流的高水平平台,在創會主委王松靈院士和前任主委金岩教授的帶領下,專委會始終将從(cóng)事(shì)口腔醫學前沿研究、推動基礎研究成果向臨床應用的轉化和培養高素質口腔醫學人(rén)才作爲己任,十年(nián)磨一劍,目前口腔生(shēng)物醫學專委會已成爲我國(guó)口腔醫學領域高水平科(kē)學研究、注重學科(kē)交叉融合與臨床轉化以及優秀口腔醫學人(rén)才聚集的重要學術“社區”,從(cóng)這裡(lǐ)走出中國(guó)科(kē)學院院士,各類優秀傑出人(rén)才(如(rú)長江學者、傑青優青等)層出不窮,更爲可(kě)喜的是口腔醫學各專業從(cóng)事(shì)生(shēng)物醫學和基礎研究的青年(nián)醫師(shī)、研究生(shēng)和博士後等紛紛彙集本專委會,積極參加專委會的學術年(nián)會、各類青年(nián)/新秀論壇以及每兩年(nián)舉行一次的優青傑青論壇。

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首屆年(nián)度顯微圖片展 審讀(dú)現場

      爲了進一步促進科(kē)學文化發展,活躍專委會科(kē)技人(rén)文氛圍,培養大(dà)家在科(kē)研工(gōng)作中的創新意識,激發科(kē)研工(gōng)作者發現美、創造美的熱(rè)情和興趣專委會于2021年(nián)舉辦了“生(shēng)命的藝術­—首屆年(nián)度顯微圖片展”,并取得(de)圓滿成功點擊此處即可(kě)查看(kàn)活動回顧。專委會決定今年(nián)将繼續舉辦“生(shēng)命的藝術­—第二屆年(nián)度顯微圖片展”,入選作品将在2023年(nián)度口腔生(shēng)物醫學學術年(nián)會上展示。此外,本次活動将與中國(guó)解剖學會組織學與胚胎學分(fēn)會聯合舉辦,以打開口腔領域的邊界,通過顯微鏡記錄下更多瑰麗多彩的生(shēng)命現象、奧妙無窮的人(rén)體(tǐ)組織、複雜多變的疾病形态,内觀己心,外察世界。

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首屆年(nián)度顯微圖片展 部分(fēn)獲獎作品

01
 征集作品要求

1. 國(guó)内醫學界從(cóng)業或研究工(gōng)作者(年(nián)齡不限)均可(kě)投稿(評委會成員不能參加)。
2. 投稿作品内容健康向上,是在科(kē)學研究和觀察中所拍(pāi)攝的顯微圖片,使用的科(kē)學儀器種類不限。
3. 投稿圖片均以數字文件提供,文件類型可(kě)以是BMP、JPG、PNG、TIFF格式,請上傳作品原始圖片(盡量高清大(dà)圖),小于500M即可(kě)。
4. 投稿圖片應基本忠實原作,禁止過度PS修飾,凡經修改過的圖片需附原圖。
5. 同一作者最多可(kě)提交3幅作品參展。
02
 征稿及展出日(rì)程

1. 投稿時間:2023年(nián)4月1日(rì)—7月31日(rì)
2.展出時間:2023年(nián)10月(口腔生(shēng)物醫學專委會學術年(nián)會期間)
03
 專家審讀(dú)規則

1. 截稿日(rì)期後,送展作品由主辦方組織專家審讀(dú),最終确定年(nián)度圖片1 幅(如(rú)沒有合适圖片,可(kě)空缺),年(nián)度圖片提名30幅。 
2. 專家審讀(dú)依據:将注重圖片的 ①原創性(拍(pāi)攝對象和拍(pāi)攝方法的獨特性、創新性)、②科(kē)學性(圖片對研究工(gōng)作的重要性)、③藝術性(圖片在造型和視覺觀感上美學呈現)。
04
 投稿方式

掃描下方二維碼複制右側鏈接至浏覽器(https://1012.mike-x.com/BAQra)進入表單,輸入參展作品信息并提交(電腦端或手機端均可(kě)操作)。作品一經提交不可(kě)修改,請在填表前熟悉表格内容,準備好相(xiàng)關資料,填寫完成并認真審閱後再提交作品。入選展示的年(nián)度圖片及提名圖片名單将短(duǎn)信通知本人(rén)。

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聯系人(rén):黃(huáng)金  聯系電話(huà):18610798028

05
 版權聲明

1. 投稿參展作品必須爲是作者的原創作品,無版權争議(yì),并保證其所投送的作品不侵犯第三人(rén)在内的合法權益(包括著作權、名譽權等),若發現涉嫌抄襲或侵犯他(tā)人(rén)著作權行爲,由作者本人(rén)負責,并取消參展資格。
2. 投稿作者需同意主辦方擁有展示交流作品的使用權,可(kě)以将該作品用于展覽、展示、出版等用途。每位作者作品投稿後,即被視爲已同意主辦方擁有所投稿作品的使用權(著作權仍由作者擁有),不另付稿酬。凡投稿的作者,均視爲同意并遵守以上各條規定。
3.本次活動不收取任何費用,不退稿。


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